半導體行業中含銅廢水是其中比較常見的一種廢水，目前半導體生產含銅廢水處理方法大多是委外或者單獨處理，下面漓源環保為您介紹一種這類工業廢水處理的方法。
          半導體生產含銅廢水進入反應池1，投加質量濃度10%的FeSO4溶液與半導體生產含銅廢水中的雙氧水反應，對絡合銅進行氧化破絡，同時Fe2+直接將絡合態的銅進行置換，反應時間25～30min，FeSO4的加藥量為進水中總銅質量的5～10倍。
         反應池1出水溢流進入反應池2，向反應池2中投加氫氧化鈣溶液，以維持反應池2的pH為9～12，當系統運行至斜板沉淀池底部污泥量達到污泥回流量時，反應池2中停止投加氫氧化鈣溶液，污泥回流系統啟動，在斜板沉淀池底部管道混合器進口處投加氫氧化鈣溶液，廢水與斜板沉淀池回流的含鈣改質污泥發生反應，通過控制反應池2的pH為9～12來反饋控制氫氧化鈣的投加量，廢水在反應池2中停留時間控制在10～20min。
         反應池2出水進入反應池3，加入重捕劑進行鰲合反應，產生含銅鰲合沉淀，進而將絡合態的銅進一步去除，反應時間為15～20min，重捕劑投加量為反應池1進水中總銅質量的3～5倍.
         反應池3反應結束后，廢水進入反應池4，投加聚丙烯酰胺溶液進行絮凝反應，緩慢攪拌，反應時間5～10min，聚丙烯酰胺的加藥量為3～5mg/L。
         污泥進入斜板沉淀池進行泥水分離，一部分污泥通過排泥泵輸送至污泥儲槽，另一部分污泥通過回流泵輸送至管道混合器，氫氧化鈣與回流污泥在管道混合器中混合均勻，形成高密度污泥，回流污泥進入反應池2與廢水進行反應。
         采用這種半導體生產含銅廢水處理方法工藝簡單，用藥量少，減低處理成本。如果您對半導體生產含銅廢水處理還有什么疑問，歡迎咨詢漓源環保工程師。

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